佳能发布FPD曝光设备“MPAsp-E903T”, 应用于高精细中小型显示面板制造且解析度达1.2μm
日期：2020-11-16
佳能※1将于2020年11月下旬正式发售FPD（Flat Panel Display）曝光设备新产品“MPAsp-E903T”。该产品可应对第6代玻璃基板尺寸※2，针对因进一步高精细化而备受期待的新一代中小型显示面板市场，可以实现1.2μm※3的解析度（L/S※4）。
MPAsp-E903T
显示面板技术随着OLED的普及逐渐向高精细化方向发展，同时在智能手机上的应用变得越来越薄型化、轻量化，而在折叠式应用上趋向不断大型化。另一方面，在VR相关的显示产品上小型化的趋势也在不断发展，呈现多样化的需求。新产品可以应对新一代显示面板制造中不可或缺的高精细化需求，致力于实现多种面板的生产制造。
■ 实现FPD曝光设备中的1.2μm高解析度
在佳能的FPD曝光设备中，新产品首次※5搭载使用了DUV（深紫外线）※6波长的新光源。该产品充分利用了镜面光学系统特有的优点，即使波长变化对色差影响很小，通过使用比以往的紫外线波长更短的新光源以及新开发的投影光学系统，实现了1.2μm解析度的曝光。如果应用相移掩模等超解析技术※7可进一步实现1.0μm解析度的曝光，助力显示技术的高精细化发展。
■ 多样化的曝光模式，用户可灵活构建工艺产线
在搭载新投影光学系统和新光源系统的基础上，新产品增加了曝光模式数量，可匹配合适的曝光条件，实现多种电路图的高效曝光。此外，新产品还可以与掩模版尺寸和设备界面都共通的上一代机型“MPAsp-E813H”（2014年9月发布）组合使用，便于用户灵活地构建工艺产线。
■ 兼顾生产性，提升套刻精度
通过设备内部布局和温度调节系统的改进，实现了±0.25μm的高套刻精度（重合性精度）。因此，该产品可以有效满足用户高精细面板生产的需求。
＜主要特点＞
1. 实现FPD曝光设备中的1.2μm高解析度
新DUV光源和新光学系统示意图（外观从右侧观看主机时）
新旧光源波长分布比较
※1nm（纳米）等于10亿分之1米。
2. 多样化的曝光模式，用户可灵活构建工艺产线
在搭载新投影光学系统和新光源系统的基础上，新产品增加了曝光模式数量，可匹配合适的曝光条件，实现多种电路图的高效曝光。采用和上一代机型“MPAsp-E813H”共通的掩模版尺寸和设备交互界面，可实现新旧机型的组合使用，削减运营成本，便于用户灵活构建工艺产线。
电路图形和曝光模式的种类
3. 兼顾生产性，提升套刻精度
通过设备内部布局和温度调节系统的改进，实现±0.25μm的高套刻精度（重合性精度）。因此，新产品可以有效地满足用户高精细面板生产的需求。
＜新产品介绍视频＞
新产品的技术介绍视频在佳能官网上现已发布。视频配有针对产品特点的清晰易懂的解说。
URL：https://www.canon.com.cn/video/Video_play/225.html
＜中小型显示面板制造设备的市场动向＞
显示面板技术随着OLED的普及逐渐向高精细化方向发展，同时在智能手机上的应用变得越来越薄型化、轻量化，而在折叠式应用上趋向不断大型化。另一方面，在VR相关的显示产品上小型化的趋势也在不断发展，呈现多样化的需求。因此，FPD曝光设备致力于超高精细和可折叠式等高附加值显示面板的量产。
＜主要产品规格＞
详细的产品规格请参考公司网站。
URL：https://global.canon/en/product/indtech/fpd/
＜敬请阅览：佳能光刻机设备50周年纪念网站＞
今年是佳能正式进入半导体光刻机事业的50周年。50周年之际，我们发布了“佳能光刻机50周年纪念网站”，通过图片和视频等易于理解的方式说明“光刻机”的原理和性能。此外，我们还面向青少年专门开设了一个页面，帮助他们理解曝光的原理。
URL：https://global.canon/en/product/indtech/semicon/50th/
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